晶体培养设计方案[实验设计方案怎么写]
作者:admin 发布时间:2024-05-20 15:10 分类:资讯 浏览:37 评论:0
导读:1、泓域咨询晶体生长设备项目方案设计报告说明CMP,又名化学机械抛光,是半导体硅片表面加工的关键技术之一CMP是半导体先进制程中的关键技术,伴随;山东大学晶体材料研究所“蒋民华班”...
1、泓域咨询晶体生长设备项目方案设计报告说明CMP,又名化学机械抛光,是半导体硅片表面加工的关键技术之一CMP是半导体先进制程中的关键技术,伴随;山东大学晶体材料研究所“蒋民华班”培养方案 一培养目标 培养德智体全面发展的,为致力于从事晶体材料及相关学科研究的高层次拔尖创新人才培养后。
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4、专利名称 均质晶体的培养方法及其装置的制作方法 技术领域 本发明涉及一种均质晶体的培养方法,该晶体由预置在一培养罐中的水热培养液生成,其在培养液中的溶解随温度。
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